2013年光刻膜市场达335亿美元-(XINWEN)

据最新研究报告显示，2011年全球半导体光刻掩膜板市场达到了31.2亿美元规模，预估2013年这一数字可达33.5亿美元。继2010年达到高峰以后，光刻掩膜板市场2011年再次增长了3%，创下历史新高。而未来两年光刻掩膜板市场则预计将有4%和3%的成长。驱动这一市场成长的关键主要来自于先进技术持续进行微缩(小于65纳米)，以及亚太地区制造业的蓬勃发展。2010年，台湾超过日本成为最大的光刻掩膜板市场，并预计将在未来预期内保持最大。

掩膜制造市场正变得越来越资本密集型；数据显示，2011年时掩膜、光罩制造设备创纪录的一年，比上一个历史记录高点2012年再增长了36%达到11.1亿美元。随着光刻掩膜板行业的资本密集度增强，转悠光刻掩膜板(captivephotomask)厂商的市场占有率也不断扩大，与2006年得30%相比扩大到40%。

针对sub45纳米制程节点，透过显影光源优化(SourceMaskOptimization，SMO)的应用将可扩展单次曝光程序，而双重曝光(doublepatterning)技术也被视为重要方案。为了协助将光学光刻技术延伸至22纳米节点尺寸，除了双重曝光和SMO之外，芯片制造商还打算利用运算光刻(computationallithography)的技术。定向自装作为延伸光学光刻到10nm节点的一个可能的方法近日获得了大量的关注。

12下一页>

广告牌结构安全检测济源市广告牌安全检测服务机构

绿园区颗粒导电炭黑炭黑厂批发

朝阳区墨盒回收回收打印机价格

回收10年茅台酒价格红酒回收

步步高百日菊种子多少钱金昌步步高百日菊种子批发

宁夏氯丁胶乳厂家供应

冬季草坪种子厂家直供南京冬季草坪种子批发

护坡高羊茅种子品种忻州护坡高羊茅种子产地批发

江门小型手推式汽油播种机广州小型手推式汽油播种机